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光刻機(jī)，曾在制造芯片時(shí)是必不可少的關(guān)鍵技術(shù)，它比原子彈還稀罕，制造起來特別難，工藝也很繁雜，需要聚集多個(gè)國(guó)家的頂尖技術(shù)。因?yàn)殚L(zhǎng)期受到西方國(guó)家技術(shù)方面的封鎖與遏制，中國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域的發(fā)展受到了嚴(yán)重的限制。那么，中國(guó)光刻機(jī)發(fā)展現(xiàn)狀是怎樣的？

近期，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)突破的消息不斷涌現(xiàn)，有小道消息透露，中國(guó)光刻機(jī)獲得重大突破，50億工廠落地浙江，阿斯麥地位危矣。此外，根據(jù)科技大V“廠長(zhǎng)是關(guān)同學(xué)”早前透露，EUV光刻機(jī)有望2028年攻克落地。只要解決EUV問題，突破5nm節(jié)點(diǎn)，進(jìn)軍更高的4、3、2、1就有了可能。

中微公司創(chuàng)始人、董事長(zhǎng)兼CEO尹志堯指出，當(dāng)前“國(guó)內(nèi)可提供設(shè)備占集成電路生產(chǎn)線的15%-30%，但中國(guó)有上百個(gè)設(shè)備公司、20多個(gè)成熟公司正在拼命努力，幾乎涵蓋半導(dǎo)體十大類設(shè)備，我們應(yīng)該用5年、10年的時(shí)間，達(dá)到國(guó)際最先進(jìn)水平，這是可以實(shí)現(xiàn)的。”從尹志堯透露的信息來看，在光刻機(jī)等半導(dǎo)體設(shè)備上，我們還需要5~10年的時(shí)間， 這意味著中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備整體技術(shù)水平相較于海外設(shè)備龍頭仍有較大差距。

當(dāng)前中國(guó)芯片設(shè)備領(lǐng)域依然嚴(yán)重依賴海外企業(yè)，自主率較低。國(guó)內(nèi)芯片設(shè)備廠商依然需要通過國(guó)際合作不斷壯大。2024年第二季度，阿斯麥訂單量增至56億歐元，同比增長(zhǎng)約 24%。該季度阿斯麥中國(guó)區(qū)收入約為23億歐元，約80億元，中國(guó)區(qū)市場(chǎng)是阿斯麥第一大收入來源，在總收入中占比49%。這意味著，ASML差不多一半的光刻機(jī)營(yíng)收都來自中國(guó)市場(chǎng)，其訂單量超出了英媒的預(yù)測(cè)。

根據(jù)國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)（\u200cSEMI）\u200c預(yù)測(cè)，\u200c中國(guó)大陸將在2026年前成為全球最大的芯片生產(chǎn)國(guó)。這么龐大的芯片量，需要購(gòu)買大量光刻機(jī)，而中國(guó)主要是生產(chǎn)成熟制程的芯片，目前被限制的更多是先進(jìn)制程的EUV光刻機(jī)，浸潤(rùn)式DUV并沒有做太大限制，到目前為止也只限制了2100i和2050i的出口。

在如今整個(gè)光刻機(jī)市場(chǎng)，主要還是被ASML壟斷，尼康佳能與之差距很大，另外一方面，則是外部形勢(shì)面臨不確定性，能買的時(shí)候，多囤積一些有備無患，未雨綢繆。但這個(gè)數(shù)字背后，我們看到了，盡管光刻機(jī)突破消息層出不窮——比如中國(guó)科學(xué)家找出制造光刻機(jī)的新路線了”、 7nm勝利在望，5nm也將獲得突破，兩個(gè)14nm疊加成7nm一類的，但是更多屬于自嗨的范疇——目前的進(jìn)口量越來越大，意味著國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)距離真正突破還遠(yuǎn)，目前公開的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)大概率處于90nm水平，而國(guó)內(nèi)芯片制造工藝早就超過了14nm，因此需要大量浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)。

從目前各種行業(yè)消息來看，國(guó)內(nèi)從過去停留在學(xué)術(shù)研究層面，轉(zhuǎn)向了轉(zhuǎn)向注重產(chǎn)品創(chuàng)新和商業(yè)模式創(chuàng)新的角度去推進(jìn)研發(fā)，在解決零部件自主上不斷推進(jìn)。以上內(nèi)容就是小編精心整理的關(guān)于中國(guó)光刻機(jī)發(fā)展現(xiàn)狀的內(nèi)容，希望能夠幫助到大家。